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晶圓表面厚度翹曲度測量系統

簡(jiǎn)要描述:WD4000晶圓表面厚度翹曲度測量系統通過(guò)非接觸測量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強大的測量分析軟件穩定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數據更準確。

  • 更新時(shí)間:2024-06-12
  • 產(chǎn)品型號:WD4000
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:160

詳細介紹

品牌CHOTEST/中圖儀器價(jià)格區間面議
應用領(lǐng)域能源,電子,綜合

WD4000晶圓表面厚度翹曲度測量系統通過(guò)非接觸測量,將晶圓的三維形貌進(jìn)行重建,強大的測量分析軟件穩定計算晶圓厚度,TTV,BOW、WARP、在高效測量測同時(shí)有效防止晶圓產(chǎn)生劃痕缺陷。兼容不同材質(zhì)不同粗糙度、可測量大翹曲wafer、測量晶圓雙面數據更準確。

晶圓表面厚度翹曲度測量系統

測量功能

1、厚度測量模塊:厚度、TTV(總體厚度變化)、LTV、BOW、WARP、TIR、SORI、平面度、等;

2、顯微形貌測量模塊:粗糙度、平整度、微觀(guān)幾何輪廓、面積、體積等。

3、提供調整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數據處理功能。其中調整位置包括圖像校平、鏡像等功能;糾正包括空間濾波、修描、尖峰去噪等功能;濾波包括去除外形、標準濾波、過(guò)濾頻譜等功能;提取包括提取區域和提取剖面等功能。

4、提供幾何輪廓分析、粗糙度分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能。幾何輪廓分析包括臺階高、距離、角度、曲率等特征測量和直線(xiàn)度、圓度形位公差評定等;粗糙度分析包括國際標準ISO4287的線(xiàn)粗糙度、ISO25178面粗糙度、ISO12781平整度等全參數;結構分析包括孔洞體積和波谷。


產(chǎn)品優(yōu)勢

1、非接觸厚度、三維維納形貌一體測量

集成厚度測量模組和三維形貌、粗糙度測量模組,使用一臺機器便可完成厚度、TTV、LTV、BOW、WARP、粗糙度、及三維形貌的測量。

2、高精度厚度測量技術(shù)

(1)采用高分辨率光譜共焦對射技術(shù)對Wafer進(jìn)行高效掃描。

(2)搭配多自由度的靜電放電涂層真空吸盤(pán),晶圓規格最大可支持至12寸。

(3)采用Mapping跟隨技術(shù),可編程包含多點(diǎn)、線(xiàn)、面的自動(dòng)測量。

3、高精度三維形貌測量技術(shù)

(1)采用光學(xué)白光干涉技術(shù)、精密Z向掃描模塊和高精度3D重建算法,Z向分辨率高可到0.1nm;

(2)隔振設計降低地面振動(dòng)和空氣聲波振動(dòng)噪聲,獲得高測量重復性。

(3)機器視覺(jué)技術(shù)檢測圖像Mark點(diǎn),虛擬夾具擺正樣品,可對多點(diǎn)形貌進(jìn)行自動(dòng)化連續測量。

4、大行程高速龍門(mén)結構平臺

(1)大行程龍門(mén)結構(400x400x75mm),移動(dòng)速度500mm/s。

(2)高精度花崗巖基座和橫梁,整體結構穩定、可靠。

(3)關(guān)鍵運動(dòng)機構采用高精度直線(xiàn)導軌導引、AC伺服直驅電機驅動(dòng),搭配分辨率0.1μm的光柵系統,保證設備的高精度、高效率。

5、操作簡(jiǎn)單、輕松無(wú)憂(yōu)

(1)集成XYZ三個(gè)方向位移調整功能的操縱手柄,可快速完成載物臺平移、Z向聚焦等測量前準工作。

(2)具備雙重防撞設計,避免誤操作導致的物鏡與待測物因碰撞而發(fā)生的損壞情況。

(3)具備電動(dòng)物鏡切換功能,讓觀(guān)察變得快速和簡(jiǎn)單。

晶圓表面厚度翹曲度測量系統

WD4000晶圓表面厚度翹曲度測量系統可實(shí)現砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、玻璃不同材質(zhì)晶圓的量測。廣泛應用于襯底制造、晶圓制造、及封裝工藝檢測、3C電子玻璃屏及其精密配件、光學(xué)加工、顯示面板、MEMS器件等超精密加工行業(yè)。測各類(lèi)包括從光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面,從納米到微米級別工件的厚度、粗糙度、平整度、微觀(guān)幾何輪廓、曲率等。

晶圓表面厚度翹曲度測量系統


應用場(chǎng)景

1、無(wú)圖晶圓厚度、翹曲度的測量

晶圓表面厚度翹曲度測量系統

通過(guò)非接觸測量,將晶圓上下面的三維形貌進(jìn)行重建,強大的測量分析軟件穩定計算晶圓厚度、粗糙度、總體厚度變化(TTV),有效保護膜或圖案的晶片的完整性。


2、無(wú)圖晶圓粗糙度測量

晶圓表面厚度翹曲度測量系統

Wafer減薄工序中粗磨和細磨后的硅片表面3D圖像,用表面粗糙度Sa數值大小及多次測量數值的穩定性來(lái)反饋加工質(zhì)量。在生產(chǎn)車(chē)間強噪聲環(huán)境中測量的減薄硅片,細磨硅片粗糙度集中在5nm附近,以25次測量數據計算重復性為0.046987nm,測量穩定性良好。


重點(diǎn)參數

測量速度:最快15s

測量范圍:100μm~2000μm

測量精度:0.5um

重復性(σ):0.2um

探頭分辨率:23nm

掃描方式:Fullmap 面掃、米字、 自由多點(diǎn)

測量參數:厚度、TTV(總體厚度變化)、BOW、WARP、LTV、粗糙度等

可測材料:砷化鎵、氮化鎵、磷化鎵、鍺、磷化銦、 鈮酸鋰、藍寶石、硅、碳化硅、氮化鎵、玻璃、外延材料等



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